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提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础，首先确定工件上各个控制节点的高度余量，并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中，然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算法在自行研制的磁流变抛光机床上进行抛光实验，经过2次迭代加工后，有效口径为145mm的球面镜P-V值达到40．5nm（约为λ／15），RMS值达到5nm（约为λ／125），表面粗糙度Ra值达到0．57nm。