用掩埋的Fe离子注入层作电流限制的沟道衬底隐埋异质结构InGaAsP/InP激光器

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美国贝尔实验室采用Fe离子注入后接着进行液相外延生长的混合工艺方法,实现了沟道衬底隐埋异质结构InGaAsP/InP激光器。通过把Fe注入到n-InP衬底中然后进行退火形成高阻区。这个高阻区用来提供一个自对准的电流限制势垒层,在液相外延之前进行原位退火以 Bell Labs in the United States adopted Fe ion implantation followed by liquid-phase epitaxial growth of the hybrid process to achieve the channel substrate buried heterostructure InGaAsP / InP laser. A high-resistance region is formed by implanting Fe into the n-InP substrate and then annealing. This high-impedance region is used to provide a self-aligned current limiting barrier layer that is annealed in situ prior to liquid phase epitaxy
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