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采用电沉积技术在纯铜片上制备了钴-钨合金薄膜,并研究了钴-钨合金薄膜的磁性能与其厚度、结构及表面形貌等的关系。结果表明:钴钨电沉积属于诱导共沉积,钨在钴表面氢原子的催化作用下与钴发生共沉积。钴-钨合金薄膜的厚度约为6μm,属于Co3W四面体结构,其表面由典型瘤状颗粒构成。钴-钨合金薄膜垂直方向的磁性能优于平行方向的磁性能,最大矫顽力为74.42 kA/m。