【摘 要】
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采用阳极氧化-高温氮化工艺制备了Ta3N5薄膜电极,通过场发射扫描电子显微镜成像、X射线衍射和X射线光电子能谱,分别对电极的断面形貌、晶型结构和表面物质组成进行了分析。通
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(21673067),河南科技大学青年学术带头人基金项目(13490001),洛阳市矿产资源化工重点实验室建设项目(1003016A)
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采用阳极氧化-高温氮化工艺制备了Ta3N5薄膜电极,通过场发射扫描电子显微镜成像、X射线衍射和X射线光电子能谱,分别对电极的断面形貌、晶型结构和表面物质组成进行了分析。通过紫外-可见光谱和电化学阻抗方法对所制备的Ta3N5薄膜电极的能带结构进行了表征。对Ta3N5薄膜的光电转化性能进行了研究。研究结果表明:所制得的Ta3N5薄膜晶型为单斜晶系结构,薄膜平均厚度为10μm且呈现出多孔层状结构,其禁带宽度为2.08eV,平带电位相对于可逆氢电极为-0.18V。施加相对于可逆氢电极1.23V的电势时,其光电流密
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