TiO2薄膜光催化剂的制备及其活性

来源 :环境科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：guyueer83

【摘要】

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用活化反应蒸发技术制备了不同附载条件的TiO2薄膜光催化剂, 膜厚度在0.5μm-1.2μm之间, 经400℃退火后用XRD测定其晶型结构,发现无定型TiO2已部分转变为锐钛矿型.薄膜光催

【作者】

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唐玉朝钱振型钱中良胡春王怡中

【机构】

：

中国科学院生态环境研究中心,上海雷欣技术玻璃厂

【出处】

：

环境科学学报

【发表日期】

：

2002年3期

【关键词】

：

光催化剂制备活性活化反应蒸发光催化薄膜二氧化钛薄膜 active reactive evaporation photocatalytic film T

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用活化反应蒸发技术制备了不同附载条件的TiO2薄膜光催化剂, 膜厚度在0.5μm-1.2μm之间, 经400℃退火后用XRD测定其晶型结构,发现无定型TiO2已部分转变为锐钛矿型.薄膜光催化剂连续使用两次活性会下降,用HCl冲洗活性即可恢复.考察了不同波长的电光源和不同辐射强度的太阳光下两种催化剂薄膜的活性比较,结果发现短波长电光源下(254nm)膜厚度以0.5!μm最佳,而强烈辐射的太阳光下膜厚度以1.2μm最佳.

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