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随着电子行业的飞速发展,对作为电子元器件基础的印制板的需求量及其加工精度的要求越来越高。紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备。在实验基础上设计了双玻璃晒架曝光机,改进了其主要组成部分,实验结果表明,散射光双玻璃晒架曝光机达到了总体设计要求。
紫外线曝光机的总体设计
【摘 要】
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随着电子行业的飞速发展,对作为电子元器件基础的印制板的需求量及其加工精度的要求越来越高。紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备。在实验基础上设计了双玻璃晒架曝
【机 构】
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西南科技大学信息工程学院
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2006年01期
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