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利用X射线衍射（XRD）应力分析仪测试了TiN薄膜涂层与Si3N4陶瓷刀具基体的界面残余应力状况，分析了成膜过程中应力形成的原因及对膜-基结合强度的影响。结果表明，TiN薄膜的残余应力为压应力，本征应力为张应力，应力的大小及分布对涂层刀具的硬度和膜-基结合强度有明显影响。
TiN涂层陶瓷刀具膜-基界面应力的试验研究
【摘 要】
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利用X射线衍射（XRD）应力分析仪测试了TiN薄膜涂层与Si3N4陶瓷刀具基体的界面残余应力状况，分析了成膜过程中应力形成的原因及对膜-基结合强度的影响。结果表明，TiN薄膜的残余应力
【机 构】
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江苏大学,成都工具研究所
【出 处】
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工具技术
【发表日期】
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2006年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（项目编号：50405035）,江苏省研究生创新基金资助项目（项目编号：XM04-24）
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