氮离子注入钨的微观分析

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对不同剂量N+ 离子注入钨的试样进行了XRD及XPS微观分析 ,研究注入层的元素、成分、化学态以及有关的相结构。结果表明 ,注入层除了单质W外 ,还有氧化物WO3 ,氮 氧 钨的化合物 ,如Wx(N ,O)以及氮化物δ WN ,随着氮离子注入剂量的增加 ,Wx(N ,O)减少 ,而δ WN量增加 ,污染物WO3 也相应减少。文中对有关机理作了相应的探讨。 The XRD and XPS microscopic analysis of tungsten implanted with different doses of N + ions were carried out to study the elements, compositions, chemical states and related phase structures of the implanted layer. The results show that the Wx (N, O) and nitride (WN) compounds such as Wx (N, O) Decrease, while the amount of δ WN increases, and the pollutant WO3 also decreases accordingly. The article made a corresponding discussion on the relevant mechanism.
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