硫化温度对CuInS2吸收层薄膜微结构的影响

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:pan2009pan
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摘要:采用电沉积一硫化法制备了CuInS2(CIS)薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和能谱仪(EDS)等实验手段对CIS薄膜的晶体结构、形貌和,组分进行了表征。结果表明:在500~560℃硫化温度范围内制备的CIS薄膜表面均生成金属性Cu2S二元相,后续的KCN刻蚀处理CuxS二元相可去除。硫。化温度为540℃制得的CIS薄膜高质量结晶、具有[112]择优取向,适合于制备CIS薄膜太阳能电池吸收层。
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