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一种基于光敏BCB技术的兰格耦合器制备工艺研究
一种基于光敏BCB技术的兰格耦合器制备工艺研究
来源 :电子与封装 | 被引量 : 0次 | 上传用户:foxgp123
【摘 要】
:
根据介质隔离兰格耦合器的结构特点,设计了基于BCB介质桥的兰格耦合器的加工工艺流程。通过对工艺流程中的关键技术和重要影响因素进行分析,得到了加工过程中的工艺参数。按
【作 者】
:
梁广华
贾世旺
赵飞
韩威
徐亚新
庄治学
陈雨
刘晓兰
何
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第五十四研究所
【出 处】
:
电子与封装
【发表日期】
:
2018年7期
【关键词】
:
光敏BCB
光刻工艺
兰格耦合器
介质桥
介质固化
Photo-BCBlithographyLanger couplerdielectric bridgecur
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根据介质隔离兰格耦合器的结构特点,设计了基于BCB介质桥的兰格耦合器的加工工艺流程。通过对工艺流程中的关键技术和重要影响因素进行分析,得到了加工过程中的工艺参数。按此工艺参数进行加工,得到兰格耦合器样件,与空气桥兰格耦合器相比,在保证电性能的基础上提高了组装的可靠性。
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