【摘 要】
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本文研究了应用新型的超高真空等离子增强化学气相沉积 (VHV- PECVD)复合腔系统沉积a- Si1-XCX∶ HK薄膜及其特性。系统的真空度可达 10 -7Pa(10 -9Torr)以上。通过控制 H2
【机 构】
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本文研究了应用新型的超高真空等离子增强化学气相沉积 (VHV- PECVD)复合腔系统沉积a- Si1-XCX∶ HK薄膜及其特性。系统的真空度可达 10 -7Pa(10 -9Torr)以上。通过控制 H2 对常规用混合气体(Si H4 +CH4 )的稀释程度以及相应的 CH4 比例 ,优化沉积工艺参数 ,制备出能带宽度范围变化较大的高质量非晶氢化硅碳 (a- Si1-XCX∶ HK)薄膜。通过 RBS、ERDA、IR和 Ramam光谱等方法分析和确定这种薄膜材料的基本特性。对 H2 氢稀释作用及其效应进行了分析。
In this paper, the deposition of a-Si1-XCX:KH thin films and their characteristics by using the new VHV-PECVD system have been studied. System vacuum up to 10-7Pa (10-9Torr) above. By controlling the degree of H2 dilution of the conventional mixed gas (Si H4 + CH4) and the corresponding CH4 ratio, the deposition process parameters are optimized to produce a high-quality amorphous hydrogenated silicon carbon (a- Si1- XCX: HK) film. The basic properties of this film material were analyzed and determined by RBS, ERDA, IR and Ramam spectroscopy. H2 hydrogen dilution and its effects were analyzed.
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