【摘 要】
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随着半导体制造工业的迅速发展,微光刻与微加工技术作为其"核心工艺"已经成为目前高校科学研究和工业研发的一个热门领域。它主要包括图形数据处理技术、图形曝光技术和图形
【机 构】
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兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室
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随着半导体制造工业的迅速发展,微光刻与微加工技术作为其"核心工艺"已经成为目前高校科学研究和工业研发的一个热门领域。它主要包括图形数据处理技术、图形曝光技术和图形加工技术。介绍了微光刻与微加工技术的基本工艺流程,讨论和分析了影响图形加工质量的工艺参数和主要因素,以及需要注意的关键事项和常见问题的解决方法。结合本实验室的工作,通过实验探索和工艺流程的优化,确定了光刻胶Futurres PR1-1000A型的最佳光刻工艺参数。
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