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通过采用蒙特卡罗模拟方法和磁通运动的热激活模型（ＴＡＦＭ） ，本文计算了在场冷（ＦＣ）和零场冷（ＺＦＣ） 过程中的磁场位形及磁化强度．基于简单的ＫｉｍＡｎｄｅｒｓｏｎ 模型的Ｕ（ｊ） 依赖关系，主要的实验结果都可以较好的被模拟．计算表明，在零场冷中，磁场位形非常接近Ｂｅａｎ 临界态模型，而在场冷中则相反，表现的是磁通冻结的图象．零场冷和场冷中的磁化强度都很强的依赖于钉扎势和临界电流密度，而只微弱的依赖于温度变化的速度更多还原