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褶合光谱模式识别系统对样品中杂质检查能力的考察
褶合光谱模式识别系统对样品中杂质检查能力的考察
来源 :药学实践杂志 | 被引量 : 0次 | 上传用户:adupt
【摘 要】
:
目的:研究褶合光谱模式识别系统杂质检查能力.方法:采用高斯函数模拟样品和杂质的吸收光谱,求出各杂质在主成分存在下的检测限.结果:得出了杂质检测限随物质相关性变化的分布
【作 者】
:
周丽芳
朱臻宇
吴玉田
柴逸峰
曹颖瑛
【机 构】
:
中国人民解放军第95医院药械科,第二军医大学药学院
【出 处】
:
药学实践杂志
【发表日期】
:
2003年6期
【关键词】
:
褶合光谱
模式识别
样品
杂质检查
高斯函数
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目的:研究褶合光谱模式识别系统杂质检查能力.方法:采用高斯函数模拟样品和杂质的吸收光谱,求出各杂质在主成分存在下的检测限.结果:得出了杂质检测限随物质相关性变化的分布趋势.结论:褶合光谱模式识别系统是一种高分辨率的杂质检查手段.
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