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采用EPMA、XRD、SEM、TEM、HR—TEM、EDX、纳米压痕、氧化实验和切削实验研究了磁控溅射在硬质合金基体上沉积TiN涂层和（Ti，Al）N涂层的微观组织结构和性能。结果表明：TiN涂层晶粒为喇叭口柱状晶，（Ti，Al）N涂层为面心立方平直柱状晶，由于固溶了Al元素，（Ti，Al）N涂层呈（200）面择优生长；（Ti，Al）N涂层在硬质合金基体上无外延生长；（Ti，Al）N涂层在800℃氧化后形成Al2O3／TiO2／（Ti，Al）N的分层结构；（Ti，Al）N涂层具有更高的硬度和更好的切削性能