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本文用计算机对三台国产镀膜机的膜厚分布进行计算，分析了膜厚均匀产生的主要原因；提出了利用计算机帮助寻找蒸发源的最佳排列，以获得在所要求的基材宽度内的最佳膜厚分布。讨论了真空度对膜厚分布的影响，并提出了膜厚分布的修正公式。
膜层厚度分布与蒸发源相对位置的设计探讨
【摘 要】
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本文用计算机对三台国产镀膜机的膜厚分布进行计算，分析了膜厚均匀产生的主要原因；提出了利用计算机帮助寻找蒸发源的最佳排列，以获得在所要求的基材宽度内的最佳膜厚分布。讨论
【机 构】
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福州大学物理系
【出 处】
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薄膜科学与技术
【发表日期】
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1991年4期
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