Al2O3基和AlxTi1-xN基复合涂层的电化学研究

来源 :中南大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：kiddmanwy

【摘要】

：

采用动电位极化曲线和电化学阻抗谱方法,研究化学气相沉积方法制备的TiN/TiCN/TiAlCNO/Al2O3(简称Al2O3基)复合涂层,阴极电弧离子镀方法制备的Al0.55Ti0.45N/TiN(简称Al0.55T

【作者】

：

周磊张立钟志强陈宜张华栋罗国凯肖桥平

【机构】

：

中南大学粉末冶金国家重点实验室

【出处】

：

中南大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2018年12期

【关键词】

：

CVD复合涂层 PVD复合涂层动电位极化曲线电化学阻抗谱涂层孔隙率涂层保护率

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(51574292);中南大学贵重仪器设备开放共享基金资助项目(2017gxjj014);粉末冶金国家重点实验室基金资助项目(2017zzkt21)~~

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采用动电位极化曲线和电化学阻抗谱方法,研究化学气相沉积方法制备的TiN/TiCN/TiAlCNO/Al2O3(简称Al2O3基)复合涂层,阴极电弧离子镀方法制备的Al0.55Ti0.45N/TiN(简称Al0.55Ti0.45N基)和Al0.67Ti0.33N/TiN(简称Al0.67Ti0.33N基)复合涂层在3.5%NaCl(质量分数)溶液中的电化学腐蚀行为。研究结果表明:Al2O3基、Al0.67Ti0.33N基和Al0.55Ti0.45N基复合涂层的孔隙率依次为0.34%,0.33%和0.02%,

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