台湾研制出新颖电子束光阻材料

来源 :硅酸盐通报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:W200582166
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电子束光刻(electron beam lithography)是一种以电子束为工具的纳米制作技术,它是利用电子束在光阻上绘制纳米级图案,再经后续显影步骤,即可轻易制作出线宽仅数纳米的高解析结构。其中,高分子聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate,PMMA)是一种很普遍的压克力材料,它被大量应用在电子束光阻的材料上,且已商业化。不过这种光阻通常只被用来做“被动”的电子束光阻材料,本身并无功能性。
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