【摘 要】
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用磁控溅射方法制备了Cu,Mo和Al基体的SmCo颗粒薄膜.用能谱EDAX,透射电镜TEM和振动样品磁强计VSM分别表征和测量了薄膜的结构和磁性能.结果表明,Cu基体溅射态已晶化而Mo和Al
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用磁控溅射方法制备了Cu,Mo和Al基体的SmCo颗粒薄膜.用能谱EDAX,透射电镜TEM和振动样品磁强计VSM分别表征和测量了薄膜的结构和磁性能.结果表明,Cu基体溅射态已晶化而Mo和Al溅射态为非晶态,在500℃回火30 min后磁性相的析出特性有一定差异.对溅射的SmCo薄膜在500℃回火30 min后,Cu基体的SmCo薄膜磁性能较好,并有一定的磁各向异性,其原因是Cu在SmCo晶界的聚集对晶粒有钉扎作用.
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