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真空阴极电弧沉积TiB2薄膜的组织结构及其摩擦学性能的研究

来源 :广东有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liongliong520

【摘 要】

：

用TiB2作阴极靶,采用优化的真空阴极电弧沉积工艺制备的TiB2薄膜是由TiB2,Ti2B5,TiB和Ti组成的多相结构.薄膜的摩擦磨损试验表明:TiB2薄膜的摩擦系数为0.139,膜层寿命超过60

【作 者】

：

朱霞高 王成彪 

【机 构】

：

广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心,中国地质大学

【出 处】

：

广东有色金属学报

【发表日期】

：

2002年2期

【关键词】

：

真空 阴极电弧沉积 TiB2薄膜 组织结构 摩擦学性能 cathodic-arc deposition  TiB2 films  friction-wear t 

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用TiB2作阴极靶,采用优化的真空阴极电弧沉积工艺制备的TiB2薄膜是由TiB2,Ti2B5,TiB和Ti组成的多相结构.薄膜的摩擦磨损试验表明:TiB2薄膜的摩擦系数为0.139,膜层寿命超过60 min,是TiN和(Ti,Al)N膜层的2倍.

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