Residual Strains in a Nanometer Thick Cr Film Measured on Micromachined Beams

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jxj860205

【摘要】

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A Cr film with a 75 nm thickness sputtered on a Si substrate was used to fabricate microbridge and microcan-tilever samples with the MEMS (microelectromechanica

【作者】

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Z.M. Zhou Yong Zhou Ying Cao H

【机构】

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KeyLaboratoryforThinFilmandMicrofabricationTechnologyofMinistryofEducation

【出处】

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材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

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2009年1期

【关键词】

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残差应变 MEMS系统薄膜干涉技术 Residual Strain Microelectromechanical system （MEMS） Micro

【基金项目】

：

This work is supported by the National Natural Science Foundation of China （No. 10402023）.

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A Cr film with a 75 nm thickness sputtered on a Si substrate was used to fabricate microbridge and microcan-tilever samples with the MEMS (microelectromechanical system) technique. The profile of the buckled beams was measured by using the interference te

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