论文部分内容阅读
采用微波等离子体化学气相法合成的金刚石膜质量好,但采用常规CH4-H2气体体系,金刚石膜的沉积速率低。为此,实验研究了C2H5OH-H2、CH4-H2-Ar和CH4-H2-N2等含有活性成分的体系下,微波功率、碳源浓度、气体压力对金刚石膜沉积速率、表面形貌、电阻率的影响。结果表明：使用含氧、氩、氮等活性成分的体系,金刚石膜生长速率分别达0.57、0.59、0.58μm/h,较常规CH4-H2体系提高了近一倍;并且金刚石膜的纯度高（薄膜表层金刚石C含量80%以上）、晶型好、电阻率高（约为1010Ω.cm）;