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对数函数控制下强流离子束径向密度的模拟研究
对数函数控制下强流离子束径向密度的模拟研究
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ufo0101
【摘 要】
:
采用多粒子程序(PIC程序),对周期性聚焦磁场中满足K-V分布的离子束进行数值模拟研究.在以匹配半径外特定区域内的离子数为控制信息的对数函数控制器的控制下,离子束的径向密
【作 者】
:
杨翠云
翁甲强
刘海英
【机 构】
:
桂林师范高等专科学校,物理与信息技术系,桂林,541002广西师范大学,物理科学与技术学院,桂林,541004;
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
2010年7期
【关键词】
:
束晕
对数函数控制器
径向密度
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采用多粒子程序(PIC程序),对周期性聚焦磁场中满足K-V分布的离子束进行数值模拟研究.在以匹配半径外特定区域内的离子数为控制信息的对数函数控制器的控制下,离子束的径向密度仍保持均匀分布,且该分布与控制信息区域无关,为强流离子束实验确定放置探测器和靶材料的位置提供参考.
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