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用1064nm激光实验研究了HfO2／SiO2薄膜的激光损伤增强效应。实验以薄膜激光损伤阈值70％的激光能量开始，采用N-ON-1方式处理薄膜，激光脉冲的能量增量为5J／cm^2。实验结果表明，激光处理薄膜表面能使激光损伤阈值平均提高到3倍左右。并且薄膜的损伤尺度也明显减小。对有缺陷的薄膜，其缺陷经低能量激光后熔和消除，其抗激光损伤能力得到增强。但增强得并不显著，而薄膜本身的激光预处理，可以使其激光损伤阈值大大提高。