应用性极薄铜薄膜电阻的自动测量

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【摘要】

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本文采用实时测量方法,测量了铜薄膜导电时的电阻.利用监测电阻状态可制作极薄的膜材.与接近块状薄膜相比较,导电性能有所不同.测量了真空下与常态下其随时间变化状况,观察到

【作者】

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潘李宜基王志文朱均强李耀俊

【机构】

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广西民族大学物理与电子工程学院,广西南宁,530000广西大学物理科学与工程技术学院,广西南宁,530000;

【出处】

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真空

【发表日期】

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2012年1期

【关键词】

：

真空技术薄膜生长薄膜电阻自动化测量

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本文采用实时测量方法,测量了铜薄膜导电时的电阻.利用监测电阻状态可制作极薄的膜材.与接近块状薄膜相比较,导电性能有所不同.测量了真空下与常态下其随时间变化状况,观察到其形成后有波动的状态.使用光学干涉法测定了可作为常规电极极限态薄膜尺寸约为90 nm左右,其导通电流极限约为0.0290 A/mm,在大气中氧化过程极快,电阻也迅速增加,也更容易受到大电流的破坏.

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