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东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECHS1500D等离子体沉积系统。S1500D等离子沉积系统是ICP—PECVD设备，用于在基片上沉积SiOx，SiOxNy或SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的调节。
SENTECHSI500D等离子沉积系统在中国的第一次安装
【摘 要】
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东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECHS1500D等离子体沉积系统。S1500D等离子沉积系统是ICP—PECVD设备，用于在基片上沉积SiOx，SiOxNy或SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率
【出 处】
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电子元器件应用
【发表日期】
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2012年3期
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