PLD法生长硅基ZnO薄膜的特性

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：szm2009szm

【摘要】

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用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)平面上生长ZnO薄膜.XRD在2θ为34°处出现了唯一的衍射峰,半高宽仅0.85°;傅里叶红外吸收(FTIR)在413.08cm-1附近出现了对应Zn-O

【作者】

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何建廷庄惠照薛成山王书运

【机构】

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山东师范大学物理与电子科学学院半导体研究所

【出处】

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电子元件与材料

【发表日期】

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2005年5期

【关键词】

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半导体技术 ZNO薄膜 PLD 六方纤锌矿结构 semiconductor technology ZnO thin film PLD hexagonal

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用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)平面上生长ZnO薄膜.XRD在2θ为34°处出现了唯一的衍射峰,半高宽仅0.85°;傅里叶红外吸收(FTIR)在413.08cm-1附近出现了对应Zn-O键的红外光谱的特征吸收峰;光致发光(PL)测量发现了位于330,368,417和467nm处的室温光致发光峰;SEM和TEM显示了薄膜的表面形貌以及结晶程度.ZnO单晶薄膜具有c轴取向高度一致的六方纤锌矿结构.

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