快速填盲孔电镀铜添加剂的研究

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【摘要】

：

介绍了—种快速填盲孔电镀铜工艺，镀液的基本墨目成和工艺条件是：CuSO4·5H3O 210g／L，H2SO4 85g／L，Cl-50ng／L，湿润剂C（环氧乙烷与环氧丙烷缩聚物）（5-30）ml／L，整平剂L（含酰胺的杂环化合物

【作者】

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何正皋潘湛昌胡光辉陈世荣詹国和张波

【机构】

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广东工业大学,广州秋泽化工有限公司

【出处】

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印制电路信息

【发表日期】

：

2015年A01期

【关键词】

：

盲孔添加剂填孔率爆发期 Blind Via Additive Filling Ratio Outbreak

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介绍了—种快速填盲孔电镀铜工艺，镀液的基本墨目成和工艺条件是：CuSO4·5H3O 210g／L，H2SO4 85g／L，Cl-50ng／L，湿润剂C（环氧乙烷与环氧丙烷缩聚物）（5-30）ml／L，整平剂L（含酰胺的杂环化合物）（3～16）ml／L，加速剂B（苯基聚二硫丙烷磺酸钠）（0．5-3）ml／L，温度23℃，电流密度1．6A／dm2，阴极摇摆15回／min或空气搅拌。研究了湿润剂C，整平剂L和加速剂B对盲孔填孔效果的影响，结果表明湿润剂C与加速剂B用量对填孔效果影响较大，而整平剂L影响

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