【摘 要】
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采用室温磁控溅射技术在镁合金（AZ91D）表面制备出SiC（碳化硅）薄膜,利用纳米压痕仪、摩擦磨损试验机对薄膜的纳米力学性能和膜基系统的摩擦磨损性能进行了研究.试验结果表明：此薄膜
【基金项目】
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江苏省自然科学基金重点资助项目（BK2007707）
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采用室温磁控溅射技术在镁合金（AZ91D）表面制备出SiC（碳化硅）薄膜,利用纳米压痕仪、摩擦磨损试验机对薄膜的纳米力学性能和膜基系统的摩擦磨损性能进行了研究.试验结果表明：此薄膜具有低纳米硬度（12.39 GPa）、低弹性模量（78.93 GPa）和高硬弹比（0.157）;膜基系统具有好的摩擦磨损性能,在以氮化硅球为对磨件的室温干摩擦条件下磨损速率在10-5mm3.m-1.N-1级,摩擦系数约为0.248,薄膜未出现裂纹和剥落.分析表明,此膜基系统具有良好抗磨性能与其薄膜具有低的硬度和高的硬弹比、膜基系
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