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半导体器件硅基片的激光去杂探讨
半导体器件硅基片的激光去杂探讨
来源 :激光杂志 | 被引量 : 0次 | 上传用户:junee1122
【摘 要】
:
介绍硅基片材料激光去杂的实验探讨方法,分析报导了激光去杂的实验结果,并把这一研究结果试用于半导体器件生产线上
【作 者】
:
程国义
程念政
【机 构】
:
合肥工业大学
【出 处】
:
激光杂志
【发表日期】
:
1997年1期
【关键词】
:
激光去杂
半导体器件
基片
PN结
热特性
Laser gettering
semiconductor device's base
P-N juctio
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介绍硅基片材料激光去杂的实验探讨方法,分析报导了激光去杂的实验结果,并把这一研究结果试用于半导体器件生产线上
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