垂直结构酞菁铜薄膜晶体管的工作特性测试

来源 :哈尔滨理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mosalin
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传统有机材料的场效应晶体管(FETs)具有工作速度低、驱动电压高的缺陷,针对这个问题,垂直结构的酞菁铜(CuPc)有机薄膜晶体管(VOTFTs)被制备,整个制备过程采用真空蒸镀和直流磁控溅射镀膜工艺.器件的层叠结构为Au/CuPc/Al(半导电)/CuPc/Au.其中半导电Al栅极薄膜的制备是十分重要的.VOTFT通过栅-源极偏压改变肖特基势垒高度来调制沟道电流.在室温下对其进行基本的电气测量.实验结果表明器件的静态输出特性具有不饱和性.漏-源极偏压VDS保持在2V时,在栅-源极上施加频率为100 Hz的
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