【摘 要】
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扫描干涉光刻(SBIL)是实现大面积高精度全息光栅制作的新技术,为实现纳米级干涉条纹精度,左右两侧曝光光路的对称性十分关键,为准确计算曝光光路空间对称性与光学元件结构及
【机 构】
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清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室 北京100084;清华大学精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室 北京100084
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扫描干涉光刻(SBIL)是实现大面积高精度全息光栅制作的新技术,为实现纳米级干涉条纹精度,左右两侧曝光光路的对称性十分关键,为准确计算曝光光路空间对称性与光学元件结构及安装误差之间的关系,提出了一种基于三维空间向量映射法的SBIL结构误差的计算评估方法,确定了曝光光束在空间传输或反射时各元件结构误差对光路对称性及干涉条纹直线度误差的影响,为验证上述模型,设计了基于压电陶瓷(PZT)条纹锁定的模拟系统,并通过数值仿真验证了上述模型,确定了该系统下实现纳米级条纹误差时各元件的结构与安装误差需求,搭建实验光路验证了在不同误差情况下干涉条纹误差情况,该模型计算相对简洁且易于实现,可指导SBIL结构与安装精度的设计与分配.
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