含萘基的光抗蚀剂超薄膜的显影和光分解性质的研究

来源 :第六届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:toerrisme
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用LB膜技术将以十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)为成膜物质,以甲基丙烯酸-β-萘酯(NPMA)为光敏感物质的共聚物(pDDMA-NPMA)在石英等基片上制成超薄膜,并用石英晶体微天平(QCM),AFM,FIIR对其显影过程及光分解机理进行了初步探讨。实验结果表明,光照前,pDDMA-NPMA薄膜对超纯水和四甲基氢氧化铵稳定,但能溶解于丙酮溶液中。用深紫外光照射后的样品,对超纯水稳定,但可在四甲基氢氧化铵显影,且显影效率随显影剂浓度的增大而增大。当用深紫外光连续照射时,在辐照的初期,共聚物中的萘被光诱导而发生拓扑化学反应,即光二聚.随着光照时间的增长,聚合物分子的主链和侧链发生氧化分解反应,生成易挥发的链碎片。
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ue*M#’#dkB4##8#”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:(100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技
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