【摘 要】
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针对镁光公司的4种NAND型Flash存储器，开展了不同辐照偏置下的总剂量效应实验及不同工艺尺寸器件的静态加电辐照实验。实验结果表明，器件在静态加电和动态辐照偏置下的总剂量效
【机 构】
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西北核技术研究所强脉冲辐射环境模拟与效应国家重点实验室
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针对镁光公司的4种NAND型Flash存储器，开展了不同辐照偏置下的总剂量效应实验及不同工艺尺寸器件的静态加电辐照实验。实验结果表明，器件在静态加电和动态辐照偏置下的总剂量效应相似，而与不加电辐照偏置下的总剂量效应不同。不同工艺尺寸器件的敏感参数有相同的变化趋势，由于受其他因素的综合影响，各敏感参数并不随工艺尺寸单调变化。
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