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采用直流辉光等离子体助进热丝化学气相沉积(CVD)的方法，低温(550—620℃)沉积得到晶态金刚石薄膜。经X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)分析表明：稍高气压有利于金刚石薄膜的快速、致密生长。
直流辉光等离子体辅助热丝CVD法沉积金刚石薄膜
【摘 要】
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采用直流辉光等离子体助进热丝化学气相沉积(CVD)的方法，低温(550—620℃)沉积得到晶态金刚石薄膜。经X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)分析表明：稍高气压有利于金刚石薄
【机 构】
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河北大学物理科学与技术学院
【出 处】
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光谱实验室
【发表日期】
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2002年1期
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