【摘 要】
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研究了阻挡层在化学机械抛光过程中表面活性剂的作用.利用5种活性剂体积分数不同的抛光液对3英寸(1英寸=2.54 cm)Cu/Ta/SiO2光片进行抛光.通过抛光前后质量变化可得各晶圆片
【机 构】
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河北工业大学微电子研究所,天津300130
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研究了阻挡层在化学机械抛光过程中表面活性剂的作用.利用5种活性剂体积分数不同的抛光液对3英寸(1英寸=2.54 cm)Cu/Ta/SiO2光片进行抛光.通过抛光前后质量变化可得各晶圆片的抛光速率,再对12英寸布线晶圆片进行抛光,利用台阶仪测量抛光前后碟形坑大小的变化,最后利用原子力显微镜对抛光后布线晶圆片的表面形貌进行测试.研究表明抛光液中活性剂体积分数不同会引起抛光速率的变化,也会影响碟形坑的修正效果.当抛光液中活性剂体积分数达到2.0％时,修正值达到85.6 nm/min,优于其他活性剂体积分数时的修正值.另外,活性剂体积分数的增加有助于降低抛光后晶圆表面的粗糙度.活性剂体积分数小于3.0％时,粗糙度随着活性剂体积分数的增加而降低.这一发现可以对配制抛光液时活性剂体积分数的确定起到一定的参考作用.
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