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结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速率、膜层形貌和表面粗糙度的影响及相关规律,为磁控溅射制备Mo薄膜、ZnO光学膜层时调控膜层厚度、透光率等性能提供参考。
工作气压对磁控溅射薄膜的影响
【摘 要】
：
结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速率、膜层形貌和表面粗糙度的影响及相关规律,为磁控溅射制备Mo薄膜、ZnO光学膜层
【机 构】
：
黑龙江省科学院技术物理研究所
【出 处】
：
黑龙江科学
【发表日期】
：
2019年14期
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