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,Evaluation of a gate-first process for AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor heterostructure field-ef
【机 构】
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School of Microelectronics, Sun Yat-Sen University, Guangzhou 510275, China“,”Institute of Technolog
【出 处】
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中国物理B（英文版）
【发表日期】
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2016年3期
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