金属蒸镀膜的附着力测定

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1.前言 前次[1](本刊已在 1983年 5期译出——译者)报告的主要内容:①采用真空蒸镀法在室温基板(光滑玻璃)上蒸镀金属 (Ag、CU、A1)时的附着力具有总平均为2~3 × 107N/m2左右的数值。②Ag被认为不存在膜厚与基板温度的依存性。③Al也被认为不存在膜厚的依存性。关于基板温度? 1. Preface The main contents of the previous report [1] (published in 1983, translator -): ① using vacuum evaporation method at room temperature substrate (smooth glass) on the evaporation of metal (Ag, CU , A1) had a total average value of about 2 to 3 × 10 7 N / m 2. (2) Ag is considered to have no dependency of film thickness and substrate temperature. Al is also thought to have no dependency on film thickness. About the substrate temperature?
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