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使用超声搅拌实现精密KOH各向异性体硅腐蚀
使用超声搅拌实现精密KOH各向异性体硅腐蚀
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xixixi
【摘 要】
:
对使用超声搅拌和和不加搅拌时(100)单昌大雨的腐蚀特性进行了研究和对比。使用超声搅拌,可以得到光滑的、无小丘的腐蚀表面,整个硅片腐蚀深度的误差不超过1μm。实验结果表明,该
【作 者】
:
陈兢
刘理天
等
【机 构】
:
清华大学微电子学研究所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2002年4期
【关键词】
:
各向异性腐蚀
超声搅拌
KOH
硅
表面粗糙度
均匀性
MEMS
anisotropic etching
ultrasonic agitation
KOH
su
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对使用超声搅拌和和不加搅拌时(100)单昌大雨的腐蚀特性进行了研究和对比。使用超声搅拌,可以得到光滑的、无小丘的腐蚀表面,整个硅片腐蚀深度的误差不超过1μm。实验结果表明,该方法可以有效地实现精密KOH各向异性体硅腐蚀。
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