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为了研究纳米多层膜的耐腐蚀性能以及腐蚀磨损机理，采用离子源辅助磁控溅射在TC4钛合金表面制备不同调制周期的CrSiN／SiN纳米多层膜。使用扫描电子显微电镜、能谱仪表征涂层的微观结构、腐蚀形貌以及元素分布；使用划痕仪、纳米压痕仪、维氏硬度计测量涂层的膜基结合力、硬度、弹性模量及断裂韧性，采用电化学工作站以及销盘磨损仪测量涂层耐腐蚀性和腐蚀磨损性。结果表明：调制周期为90nm与360nm时涂层耐腐蚀性能较好，腐蚀电流密度分别为1.31×10^-8A·cm。和1．20×10^-8