激光修改化学气相沉积掩模技术

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日本电气株式会社报导:他们研制成功激光化学气相沉积掩模修改装置,该装置可对制作大规模集成电路使用的照相掩模白点缺陷进行高速修复。在大规模集成电路的掩模制作中,常出现黑点和白点两种缺陷,对黑点缺陷的修改方法是用激光照射到掩模上,使被照射部分蒸发;而对白点缺陷修补起来就比较困难。 Nippon Electric Co., Ltd. reported that they have successfully developed a laser chemical vapor deposition mask modification device capable of high-speed repair of white-point defects in photographic mask used for manufacturing large-scale integrated circuits. In large-scale integrated circuit mask making, often appear black and white point two kinds of defects, the black point defect modification method is to use laser irradiation to the mask, so that the irradiated part of the evaporation; and repair white point defects It is more difficult.
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