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研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生.
ITO靶材在磁控溅射过程中的毒化现象
【摘 要】
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研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3主
【机 构】
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西北稀有金属材料研究院宁夏特种材料重点实验室
【出 处】
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无机材料学报
【发表日期】
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2002年5期
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