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采用磁过滤真空溅射离子沉积技术，用氩气和氮气共溅射石墨靶在不同氮气分压下，制备了一组不同氮含量的四配位非晶氮碳薄膜（ｔａ０Ｃ：Ｎ）。用Ｘ射线光电子能谱确定ｔａ－Ｃ：Ｎ薄膜中折一；研究了氮含量对ｔａ－Ｃ薄膜的拉曼光谱和表面形貌的影响。结果表明：不含氮的ｔａ－Ｃ薄膜的拉曼光谱是中心在１５８０ｃｍ＾－１、范围从１２００ｃｍ＾－２、２０００ｃｍ＾－１的类高斯峰，表面均匀光滑；含氮的ｔａＣ：Ｎ薄膜，其拉曼光