【摘 要】
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以三甲基氯硅烷对多级孔二氧化硅进行烷基化,随后通过两步辐射诱导接枝季鏻盐,制备了一种新型季鏻化多级孔二氧化硅材料,命名为HPS?C?P.傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和比表面积(BET)分析表明,烷基和季鏻盐均匀接枝在多级孔二氧化硅表面.考察了HPS?C?P对ReO4?的吸附性能,发现HPS?C?P对ReO4?的吸附在4 min内即可达到平衡,最大吸附量可达140.5 mg/g,高于化学方法修饰季鏻盐的多级孔二氧化硅的最大吸附量74.4 mg/g.ReO4?的浓度与竞争离子的浓
【机 构】
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北京大学化学与分子工程学院放射化学与辐射化学基础科学重点实验室 高分子化学与物理教育部重点实验室 北京分子科学国家实验室 北京 100871;内蒙古科技大学化学化工学院应用化学研究所 包头 01401
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以三甲基氯硅烷对多级孔二氧化硅进行烷基化,随后通过两步辐射诱导接枝季鏻盐,制备了一种新型季鏻化多级孔二氧化硅材料,命名为HPS?C?P.傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和比表面积(BET)分析表明,烷基和季鏻盐均匀接枝在多级孔二氧化硅表面.考察了HPS?C?P对ReO4?的吸附性能,发现HPS?C?P对ReO4?的吸附在4 min内即可达到平衡,最大吸附量可达140.5 mg/g,高于化学方法修饰季鏻盐的多级孔二氧化硅的最大吸附量74.4 mg/g.ReO4?的浓度与竞争离子的浓度比为40:1时,相对于NO3?、SO42?、Cl?,CO32?和PO43?,HPS?C?P对ReO4-的分离因子(SF)最大可达159、827、557、681、1905,高于大多数目前报道的吸附材料.HPS?C?P具有良好的抗辐射性能和循环吸附性能,FTIR和XPS分析表明ReO4?通过离子交换机理被HPS-C-P吸附.这项工作提供了一种制备高效硅基吸附剂的新方法,此吸附剂即便暴露于辐射环境中仍可以高选择性地从水溶液中去除Re.
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