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STUDY OF F~--ISFET

来源 :Journal of Electronics(China) | 被引量 : 0次 | 上传用户：hxlatxx

【摘 要】

：

The fluorine ion sensitive field-effect transistor（F^--ISFET）is made by depositingvery thin LaF₃ film on grid of field-effect transistor with

【作 者】

：

何杏君 

【机 构】

：

NankaiUniversityTianjin

【出 处】

：

Journal of Electronics(China)

【发表日期】

：

1992年1期

【关键词】

：

FIELD-EFFECT transistor(FET) FLUORINE ion sensitive-FET Insulated gate-FET Field 

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The fluorine ion sensitive field-effect transistor（F^--ISFET）is made by depositingvery thin LaF₃ film on grid of field-effect transistor with sputter method.The operating principle,measuring method and measured

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