三种材料多弧离子镀TiN涂层性能比较

来源 :电加工与模具 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dangerererer
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
硬质TiN薄膜广泛用作高速钢刀具的耐磨层,较少用于其他钢种。本文选择W6Mo5Cr4V2、3Cr2W8V和GCr15三种材料用多弧离子设备沉积TiN涂层,测定了涂层的表面硬度、涂层与基体的结合力、TiN涂层的结构及过渡层硬度分布。试验结果证明:只有选择在沉积温度下保持高的硬度及舍有较多合金元素尤其是V元素的基体材料,才能获得良好性能的TiN涂层。
其他文献
设计实现了加速Microsoft GDI中AlphaBlend、BitBlt、MaskBlt、StretchBlt、TransparentBlt等函数的硬件结构;对函数实现中缩放算法的数据相关性进行研究,提出一种高效的缩放结构,与Marvell PXA300相比性能有明显提升.并且使用FPGA对本结构进行验证,结果与Microsoft GDI一致,在SMIC 0.13μm CMOS工艺标准单元库下
分析了忆阻器与忆容器之间的关系,提出了基于电压控制型忆阻器的忆容器模型.用Pspice软件对该模型进行了仿真实验,发现该模型中忆容器的忆容值与忆阻器的忆阻值成线性关系,忆
中国机床工具工业协会特种加工机床分会于2004年11月5~7日在广西北海召开2004年年会暨换届会议,出席会议代表共52人。总会副总干事长耿良志、综合办公室副主任邓荣荣代表总会到