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在用于半导体制造的化学品中,最贵的是光刻胶、抗反射涂层(ARC)和聚酰亚胺(polyimide)等.精确地预测这些特殊的光化学物质的使用量,对于半导体fab的平稳运行非常重要.库存过多会导致极大的浪费,而库存过少则说明生产状况和来自化学品供应商的供货不够顺畅,有可能使生产中断.
光刻胶使用量预测与库存
【摘 要】
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在用于半导体制造的化学品中,最贵的是光刻胶、抗反射涂层(ARC)和聚酰亚胺(polyimide)等.精确地预测这些特殊的光化学物质的使用量,对于半导体fab的平稳运行非常重要.库存过
【机 构】
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BMC Corp.
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年8期
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