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离子注入Q薄膜的电导性及XPS研究
离子注入Q薄膜的电导性及XPS研究
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:l7610237
【摘 要】
:
Xe+离子注入Q薄膜,使其电导率增加了8个数量级,饱和电导率达2×10-3(Ωcm-1),且在环境条件下十分稳定。XPS分析表明,薄膜注入后表层注入区碳含量显著增加,氧含量明显下降
【作 者】
:
王培录
冯克鲁
【机 构】
:
四川大学原子核科学技术研究所,四川大学
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
1990年6期
【关键词】
:
离子注入
电导率
Q薄膜
聚合物
Ion implantation Polymer Electrical conductivity
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Xe+离子注入Q薄膜,使其电导率增加了8个数量级,饱和电导率达2×10-3(Ωcm-1),且在环境条件下十分稳定。XPS分析表明,薄膜注入后表层注入区碳含量显著增加,氧含量明显下降,结构发生变化。研究表明,这是电导变化的主要原因。更多还原
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