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利用等离子辅助化学气相沉积技术制备了一系列低维碳基纳米材料,如碳纳米管、碳纳米管锥及金刚石纳米锥等,由于其优异的力学、热学及电学特性,而成为真空场致电子发射的优选材料.本文介绍在单根和阵列结构低维碳基纳米材料的场电子发射特性及发射机制上的研究进展,并探讨这一领域今后的发展趋势.
低维碳基纳米材料的场电子发射特性
【摘 要】
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利用等离子辅助化学气相沉积技术制备了一系列低维碳基纳米材料,如碳纳米管、碳纳米管锥及金刚石纳米锥等,由于其优异的力学、热学及电学特性,而成为真空场致电子发射的优选
【机 构】
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中国科学院物理研究所微加工实验室
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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2012年6期
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